| 产品特性：离子束 | 品牌：scia Systems | 型号：Magna 700 |
| 规格：/ |
1. 常规属性
- 磁控溅射技术利用等离子体离子轰击溅射靶材，从而在样品基底表面沉积薄膜
- 利用同步样品公转和自转在曲面衬底上形成均匀或梯度薄膜
- 有6个磁控源，每个磁控源都有单独的外壳，以独立供气并设定各自的粒子溅射曲线
- 可选预处理离子源
- 带有loadlock的样品载具操作机构，具有2个独立的样品工位
- 样品面朝下装载，以减小粒子污染
2. 系统性能
| scia Magna 700 | |
| 样品尺寸 | Φ700 mm, 130 kg |
| 溅射源 | 6个矩形磁控源 (600 mm x 90 mm), 可选离子源 |
| 溅射模式 | DC : 连续 或 脉冲（1 kW）或 RF （1 kW，13.56 MHz） |
| 参考溅射速度 | Cr: 45 nm/min, Si: 22 nm/min, Ti: 22 nm/min |
| 均匀性变化 | Φ300 mm ：<0.1 % (σ/mean) , Φ450 mm ：<0.2 % (σ/mean) . |
| 基础真空 | <1 x 10-8 mbar |
| 系统尺寸 (W x D x H) | 7.90 m x 4.40 m x 3.50 m （不含电控柜与真空泵） |
| 软件界面 | OPC |
